この文献を取り寄せる

図書館へ購入を依頼する

このページのリンク

<図書>
超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
(表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11)

出版者 東京 : 共立出版
出版年 1990.4
本文言語 日本語
大きさ v, 117p ; 19cm
一般注記 文献: p[110]-113
著者標目 津田, 穣(1935-) <ツダ, ミノル>
件 名 BSH:集積回路
BSH:工業材料
BSH:薄膜
NDLSH:感光性樹脂
NDLSH:集積回路
分 類 NDC8:549.7
NDC8:578.4
NDC7:549.8
NDLC:PA441
書誌ID 1000105345
ISBN 4320085116
NCID BN04656779 WCLINK

所蔵情報を非表示


書庫 一般 578/T 1062438
4320085116

書誌詳細を非表示

データ種別 図書
巻冊次 ISBN:4320085116 ; PRICE:1360円

 類似資料